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编辑/VR陀螺
9月4日，AR光学厂商广纳四维官方发布消息称，公司与纳米图案化技术厂商EULITHA（优利赛尔）达成合作，双方将结合碳化硅光学器件与DUV深紫外光刻技术，推进碳化硅光波导规模化量产及AR眼镜应用。
据介绍，广纳四维将碳化硅引入光波导，利用其高折射率、高机械强度及透光性能，并结合自研DUV光刻与刻蚀工艺，在碳化硅基底上实现纳米级光栅加工，相关方案可实现单片全彩显示、无彩虹纹。
EULITHA则专注于纳米图案化技术，通过DUV深紫外光刻技术在碳化硅基底上进行大面积、高精度图案制备，一次曝光即可制备多组波导，在保证分辨率的同时兼顾生产效率。
此次合作将覆盖光刻、刻蚀、镀膜及组装等环节，通过碳化硅光学器件与DUV光刻技术结合，进一步推进高性能碳化硅光波导的规模化制造与应用。
来源：广纳四维
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